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真空镀膜设备离子镀的类型及特点

来源:www.wykjx.com发表时间:2020-12-17

  离子镀是真空蒸发和溅射相结合而发展起来的一种沉积技术。在真空条件下,用适当的方法蒸发涂层材料。气体放电使工作气体和蒸发物质部分电离。在气体离子和蒸发物离子的轰击下,蒸发物或其反应产物沉积在衬底上。离子镀的基本过程包括蒸发、电离、离子加速和离子轰击。根据涂层材料的蒸发方式和气体电离方式的不同,可以形成不同类型的离子镀。下表显示了几种主要的离子镀方法。离子镀具有镀层与基体结合力好、衍射性能好、镀料范围广、沉积速度快等优点。
表面离子镀的类型和特点
电离源和工作环境的电离特性
直流放电法电阻辉光放电直流:0.1kv~5kV惰性气体1pA,0.25ma/cm2,结构简单,膜层附着力强,但镀件温度升高,分散性差!耐热、润滑和其他电镀部件
结果表明:直流:100V高真空1.33x10-4pa,电离率高,易形成反应膜,在高真空下可形成,有利于提高刀具、金属装饰等零件的质量
空心阴极等离子电子束直流:0V~200V惰性气体或反应性气体具有高电离率、高蒸发率、易获得高纯度镀层装饰、耐磨等电镀件
电子束的电阻和射频电场为13.56mhzdc:0.1kv高~5kV惰性气体或活性气体的电离率,镀层附着力强,镀件温升低,分散性差,光学和半导体镀件
电场蒸发电子束二次电子直流:1kv~5kv真空杂质气体少,能形成较好的薄膜电子元件
低温电子电离电阻和电子束热电子直流:0v~5kv惰性气体或反应气体对装饰、电子、精密机械等零件有良好的效果
直流:0伏~5千伏惰性气体由于离子聚束,薄膜附着力强,电子元器件
反应性气体如O2、N2、CH4、C2H4等的组合可用于制备电子、装饰、耐磨等多种废弃物。

  

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